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中国芯片再次发力,高能离子注入机研制成功,光刻机还会远吗?
发布时间:2020-07-02 06:53 来源:互联网

6月28日,北京记者在采访中国电子科技集团有限公司时得到消息,他们集团自主研制的高能离子注入机已经能完成百万电子伏特高能离子加速,再次打破了国外对我国的技术封锁,离子注入机也是芯片制作的核心设备,现在我国高能离子注入机已经研制成功,那么高工艺制程的光刻机研制技术还会远吗?

最近美国对我国华为的制裁让我国认识到自己在很多方面还有不足,但是我们并没有被这些困难压垮,我国企业以及技术人员反而因此变得更加团结,在这段时间我国也传来一个又一个的好消息。让世界看到了中华民族的韧性。

6月28日,北京记者胡喆在采访中国电子科技集团有限公司时得到消息,他们集团研制的高能离子注入机已经可以完成百万电子伏特高能离子加速。而且这项技术是由他们公司自主研制的,高能离子注入机是离子注入机这项技术中最难的一步,也被行业内的人士称为离子注入机领域的“珠穆朗玛峰”,研制难度很大。

我国这些年在这方面一直都很依赖国外,离子注入机也是芯片制作的关键设备,在芯片制作过程中有着不可替代的作用。我国在多年研制之后终于取得了这方面的突破。中国电子科技公司总监张丛表示,他们国家预计将会在今年年底的时候交付首台高能粒子注入机,我国自主完成芯片制造的能力也会因此获得进一步的提升。

由于别的国家在这方面比我们先走了十几年的路,并且那些西方国家害怕我国发展起来并超越他们,这些年一直用《瓦森纳协定》限制我国在这方面的发展。我国这方面的技术进程也一直都很慢。

但是特朗普最近的做法把我们惹火了,也让我们清楚地知道落后就要挨打,他让我们国家的企业以及科研人员在这时都团结起来,我们要让那些西方国家知道我们中国并没有他们想象中的那么好欺负。

现在我国成功研制出的高能离子注入机就是我们向世界发出的第一个挑战书,在我国科研人员的努力下,我国已经攻克了芯片制作的一大难关,有了这项技术为我们带来的自信,国产高端光刻机的出现还会远吗?

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