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中国芯迎来转机!两大芯片制造设备突破,西方打压套路再次重演?
发布时间:2020-09-04 03:32 来源:互联网

众所周知,自从我国的中兴通讯和华为公司被美国打压以后,让我们马上就意识到了国产科技企业在半导体芯片领域发展的短板,由于我国在半导体芯片领域起步较晚,基础较为薄弱,再加上国外技术的垄断,所以我们一直都没能生产出属于我们自己的国产高端芯片来,而唯一能拿得出手的也仅仅只是华为的海思麒麟芯片,而华为也只是具备芯片的研发能力,并不具备芯片的生产能力,所以这就导致国产科技企业也很容易被卡脖子发展!

长期以来,国产科技企业生产所需的芯片,几乎都是依赖于美国高通、英特尔等科技企业进口而来,每年我国的芯片进口规模甚至超过了石油,在众多的进口商品中位列第一;这也让国外的半导体芯片企业因此而赚得盆满钵满;在今年的5月份,美国再次的颁布了针对华为的芯片新禁令,这一次特朗普直接对准了我们的软肋,想要切断华为的芯片供应链体系,这也让华为将面临芯片断供的危机!

在芯片制造领域,我们和国外还有很大的差距,但想要进行破局也不是没有可能,芯片的生产制造过程非常的复杂,可以说芯片的生产也是一个点石成金的过程,从砂子到晶圆再到芯片,这其中需要经历很多的复杂工艺;而在芯片的生产过程中,不仅需要光刻机设备的支持,而且我们还需要离子注入机以及蚀刻机等先进的设备来支持才行,这三大设备可以说是光刻机生产过程中必须要用到的关键设备,想要制造高端芯片,这三个设备缺一不可!

最近这两年,随着越来越多的国产科技企业开始布局半导体芯片领域的研发,让中国芯片也迎来了一定的转机;为了攻克芯片制造,我国从多方面不断努力,尤其是在生产芯片的三个关键设备领域,经过国产科技企业的多年努力,现在也都取得了一定成就和突破;据悉,在蚀刻机领域,中微半导体已经突破了5nm蚀刻机的研发,并达到了国际领先水平,而我们所研发出的先进蚀刻机也已经被用于台积电今年的5nm芯片生产中了,在光刻机方面:上海微电子传来的消息显示:将于明年交付国内首台28nm浸没式光刻机,可以说这也是国产光刻机所取得的重大突破;而在离子注入机方面:中国电子科技集团也已经宣布研发成功高能离子注入机,并实现百万电子伏特高能粒子加速技术的突破,性能达到国际先进水平。

看到中国在芯片生产领域取得一个又一个的突破,这也让我们感到非常的欣慰,其中光刻机和高能离子注入机的成功,都是从无到有的突破;这两大设备取得成功后,中国在芯片制造领域也将再进一步,但在这个关键时刻,西方的打压套路也再次的重演;一直以来西方都一个惯用的打压套路,那就是在我们没有时,他们狮子大开口要价,当我们取得技术攻克后,他们就狠狠降价,让我们的自主研发产品失去竞争力,无法再继续前进,而这一次中国在光刻机领域取得技术突破以后,荷兰ASML公司的光刻机就进行了降价,想要抢占国内市场,让我们自主研发的产品失去竞争力,无法再继续前进,最终达到垄断市场,但对这样的打压套路,我们不能上当,只有不断的加大自主研发的力度,并一鼓作气,取得最终的生产芯片的技术才行,不知道对此你是怎么看的呢?欢迎留言!

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